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第123章 科学院光电所光刻机存在的致命问题（第2页）

对此，他虽然泰然处之，用安然用之，适当的放弃追根究底，但这并不代表他就完全不管了——而是要一步步的发展和攀登科技，终有一天要弄清楚整件事情的真相的。

而挣更多钱对此远没有发展更高的科技帮助更大。

而对此，他没有办法详细的跟孙博解释清楚，而是换了一种方式，如此说道：

“哪怕是世界首富，他能享受的也只是这个世界的极限。

但发展科技，却可以让我超越这个极限。

“古代的皇帝，哪怕至高无上，手握所有人的生杀大权，他也享受不到刷短视频带来的乐趣，也没办法体验夏天吹着空调吃冰淇淋的惬意。

“从京城到江南，也得三五个月的折腾，哪像你，中午说来，下午就到我这儿了，古代的皇帝也没这待遇啊！”

孙博点了点头，他明白纪弘的愿景了——这就跟他追求数学的极限是一样的。

此刻，他开始认真考虑从科学院计算所跳槽到卷耳智能科技来了——在那边，他一个副研究员高工，虽然也不错了，但志同才能道合。

他感觉纪弘这里是。

按照卷耳智能科技的思路往下想，光刻机的事儿其实就有答案了，他们肯定没有自己去做的想法。

利用类思维AI这个大杀器，帮助光研所或者沪微去快速的去提高他们光刻机的水平和能力，应该符合卷耳的思路——这样更快。

“所以，现在光电所的光刻机什么情况？”

纪弘开口问道。

“单次曝光最高线宽分辨力达到22nm的线宽，双重曝光能够实现10nm级别的芯片制造。”

纪弘着孙博，那眼神仿佛在说：“你在逗我！”

“这是真的，而且超分辨率光刻技术，是没有技术壁垒的，不涉及其他任何家的专利……”

“好了，你说‘但是’吧！”

纪弘说道。

“但是……”

孙博自己也笑了：“现在还只应用在科研领域。”

“为什么，不能量产？”

“量产是没有问题的，但是，超分辨率光刻机聚焦面积小，几乎是接触式光刻，而且是直写式的。

缺点很致命，这你明白吧？”

纪弘很想说，我明白个嘚儿我明白，我不研究这个：“说清楚一些，具体是哪方面的问题。”

孙博这才想起，纪弘好像是土木专业，自学的编程和AI，光刻机他可能还真不太懂，于是解释道：

“做周期的线、点、光栅部件，举个简单的例子：我们就画两条线，这台光刻机是能实现单次线宽22nm的，如果图形复杂了，那就不行，做不了。”

这么一说，纪弘明白了。

芯片，尤其是现在的芯片，动不动在平方毫米级别的硅片上，刻画几百亿个晶体管场效应管什么的，甚至还是多层光刻。

图案的复杂度完全就不是一个量级的，只能光刻周期性的“点”

和“线”

，这差距也太大了一点儿。

“所以，王华新院士听了刘向东院士的介绍之后，才那么火急火燎的说要过来，他想的就是你这边能不能有什么解决方案。”

孙博感叹道：“从简单到复杂，还真是你们类思维AI能干成的，这事儿说不定真能成。

“而且，你知道吗，超分辨率光刻机，光源用的是365nm，这要成了，以后换193nm，直接能抵得上EUV了就！”

纪弘笑了笑，并未绝对应承，思索着确实可行，但是具体情况的话，还需要训练的成效。

（本章完）